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无级文献链接ModelingofmetastablephaseformationforsputteredTi1-xAlxNthinfilms (ActaMater.,2019,DOI:10.1016/j.actamat.2018.12.004)本文系作者供稿。调压磁控溅射Ti1-xAlxN薄膜的实验数据与该模型吻合良好。【引言】TiAlN薄膜长期作为基准涂层材料用于金属切削与成型等领域，变压其亚稳固溶体在物理气相沉积过程中容易形成，对材料结构与性能产生决定影响。
尽管普遍认为亚稳态TiAlN的相形成受动力学因素控制，投运但目前的相关理论计算仅基于能量考虑，投运没有结合热力学和动力学因素的理论模型，用于预测亚稳态TiAlN中的Al固溶度极限。图11：配网Al临界固溶度对比将热力学模型，DFT计算和实验值，与该模型得到的Ti1-xAlxN的Al临界固溶度进行对比。
【小结】基于组合磁控溅射实验，智能浙江CALPHAD热力学模型和第一性原理计算，提出了一种考虑动力学效应的TiAlN薄膜亚稳相形成模型。
该模型预测的xmax范围0.42-0.50，有载是之前基于能量的理论模型所无法得到的。它是由谷歌法国巴黎部门的两位工程师利用谷歌20%时间打造，无级意在将智能手机变成一个虚拟现实设备。
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